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GC-9280型氦離子化氣相色譜儀適用于高純氫、氧、氬、氮、氦、氖、氪、氙、二氧化碳等氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè),儀器配備高靈敏度的氦離子化(PDHID)檢測(cè)器,采用中心切割與反吹技術(shù),配置具有吹掃保護(hù)氣路的進(jìn)樣切換閥和進(jìn)口氦氣純化器,通過無(wú)死體積取樣或在線進(jìn)樣方式,一次性完成上述高純氣體中H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO、CO2等常見雜質(zhì)或C1-C4等碳?xì)浠衔锏臋z測(cè),檢測(cè)限達(dá)ppb,重復(fù)性RSD≤1%。
適用標(biāo)準(zhǔn):
GB/T3634.2-2011 《純氫、高純氫和超純氫》
GB/T 14599-2008《純氧、高純氧和超純氧》
GB/T 8979-2008《純氮、高純氮和超純氮》 GB/T 4842-2006《氬》
GB/T 4844-2011 《純氦、高純氦和超純氦》 GB/T 17873-1999《純氖》
GB/T 5829-2006《氪氣》 GB/T 5828-2006《氙氣》
HG/T 3633-1999《純甲烷》 GB 10621-2006《食品添加劑 液體二氧化碳》
GB/T 23938-2009 《高純二氧化碳》
GB/T 28125.1-2011《空分工藝中危險(xiǎn)物質(zhì)的測(cè)定》
氦離子化氣相色譜儀技術(shù)參數(shù):
檢測(cè)限(ppb):
一般雜質(zhì) | ||||||
雜貨種類 | H2 | O2(Ar) | N2 | CH4 | CO | CO2 |
檢測(cè)限 | 5 | 10 | 10 | 5 | 25 | 5 |
碳?xì)浠衔?/span> | |||||||
雜質(zhì)種類 | C2H4 | C2H6 | C3H6 | C3H8 | C4H8 | C4H10 | iC4H10 |
檢測(cè)限 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
性能特點(diǎn)
進(jìn)樣口流量、色譜柱載氣流量,檢測(cè)器氣體流量,精密控制
多種進(jìn)樣口可配:填充柱進(jìn)樣口(帶隔墊吹掃,可接大口徑毛細(xì)管柱)、分流/不分流毛細(xì)管進(jìn)樣口、程序升溫冷柱頭進(jìn)樣口揮發(fā)性組分串接進(jìn)樣口(配與頂空/吹掃捕集/熱脫附等樣品預(yù)處理裝置);
行業(yè)先的檢測(cè)器設(shè)計(jì)
特殊陶瓷化處理的放大板,在潮濕季節(jié)始終穩(wěn)定,自動(dòng)點(diǎn)火,氫氣泄露自動(dòng)保護(hù)功能,安全可靠。
精密控制程序升溫與爐膛溫度,精準(zhǔn)的爐溫跟蹤設(shè)計(jì)
爐膛內(nèi)部控制精度小于0.01℃;內(nèi)部各點(diǎn)之間的溫差不大于1℃;快速升溫及降溫,程序升溫速度120℃/min;平衡時(shí)間10;降溫時(shí)間(300℃到50℃)6min;控制的溫度準(zhǔn)確度(與實(shí)際溫度相差小于0.1℃)。
全進(jìn)口的閥配置系統(tǒng)
多搭載8個(gè)閥(四通閥、六通閥、十通閥以及液體進(jìn)樣閥可選);自動(dòng)控制、序列運(yùn)行;0泄露吹掃技術(shù);高速切換電磁閥壽命長(zhǎng)(100萬(wàn)次,10mS)。
獨(dú)立加熱小柱箱
多柱色譜系統(tǒng)中,可以分別設(shè)定不同柱子的使用溫度,從而達(dá)到每根柱子優(yōu)質(zhì)分離效果;
氣路切割技術(shù)的方便實(shí)現(xiàn)
可實(shí)現(xiàn)多維色譜功能完成復(fù)雜樣品的分離分析,可實(shí)現(xiàn)色譜柱的反吹功能來節(jié)省分析時(shí)間和周期;
技術(shù)指標(biāo)
柱溫箱 | |
控溫范圍 | 室溫+5℃~450℃; |
溫度設(shè)定精度 | 0.1℃ |
程序升溫速度 | 60℃/min |
程升階數(shù) | 8階程序升溫 |
程升速率 | 0.1~120℃/min(增量0.1℃) |
大運(yùn)行時(shí)間 | 999.99分鐘 |
可運(yùn)行柱流失補(bǔ)償(雙通道) | |
加熱區(qū) | |
6個(gè)獨(dú)立控制加熱區(qū)控制(不包括爐箱溫控,兩個(gè)進(jìn)樣口、兩個(gè)檢測(cè)器、;兩個(gè)輔助加熱區(qū) | |
輔助加熱區(qū)使用溫度 | 300℃ |
檢測(cè)器 | |
氦離子化檢測(cè)器(PDD) | |
放電模式: |
|
基線噪聲: |
|
檢測(cè)限: |
|
載氣純化器 | |
可純化氣體: |
|
操作壓力: |
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去除氣體: |
|
殘留濃度: |
|
更新時(shí)間:2024/9/12 9:16:36
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